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반도체 공정 #3 - PhotolithographySemi-process 2022. 2. 1. 14:37
What is Photolithography Mask 상에 설계된 패턴을 웨이퍼 상에 구현하는 기술 Photolithography 순서 1. Pattern이 형성된 mask에 2. mask를 통과하도록 특정한 빛을 조사하여 3. 감광제가 도포되어 있는 wafer 상에 노광 ※필수 구성 요소 - Mask, 빛, 감광제(Photoresist) Mask - wafer에 형성하고자 하는 pattern이 그려진 판 빛 - 감광제의 화학 반응을 일으키는 역할, 특정 파장대 영역의 빛을 사용 감광제 - 특정 파장대 영역 빛 - 광화학 반응, 현상 공정을 통해 Pattern 형성 Photoresist(감광제) 빛을 조사하였을 때 특정한 형태로 분자 구조가 바뀌는 물질 - 특정 현상액에 선택적 용해가 가능 (Wet et..